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槽式碱抛光清洗设备

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产品描述

　　设备用途 
　　用于扩散后的硅片抛光刻蚀、清洗处理，以及搭配双面电池背面制绒、清洗处理。
　　1. 兼容背面刻蚀抛光及单晶背面制绒工艺。
　　2. 支持最薄110um硅片。
　　3. 洁净区域干燥，自洁净系统。
　　4. 快速换液，在线换液。
　　5.内循环和鼓泡，液位保护、温度保护功能
　　6. 支持MES、RFID及选配在线称重功能。
　　

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单晶槽式制绒设备
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槽式RCA清洗设备

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